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Neste trabalho são apresentados os efeitos nas propriedades mecânicas, estruturais e tribológicas da incorporação de flúor em filmes de carbonoamorfo hidrogenados depositados por Deposição na Fase Vapor Assistidopor Plasma . A estabilidade térmica de filmes de carbono amorfo fluoradostambém foi estudada. Os filmes foram depositados a partir de uma misturados gases C2H2 e CF4 com uma tensão de autopolarização de -350V. Amistura de gases da deposição foi variada de uma concentração de 0% até90% de CF4. A estabilidade térmica foi verificada em filmes depositadoscom 50% de C2H2 e 50% de CF4 na atmosfera precursora. Os filmes foramsubmetidos a temperaturas variando de 200oC a 600oC por 30 minutos. Aspropriedades mecânicas, estruturais e tribológicas dos filmes foram estudadoscom o uso de técnicas nucleares (retroespalhamento de Rutherford e Detecçãopor recuo elástico), espectroscopia Raman, espectroscopia de fotoelétronsinduzida por raios-X, perfilometria (tensão interna), nanoindentação (dureza), de microscopia de força atômica e de ângulo de contato. Os resultados obtidosmostraram que a incorporação de flúor produzem filmes com as propriedadesindo em direção às propriedades do Teflon. Os filmes ricos em flúor são menosdensos, mais macios, mais hidrofóbicos e tem um menor coeficiente de atrito doque filmes de carbono amorfo hidrogenados. O tratamento térmico realizadomostrou que os filmes são estáveis a temperaturas de até 300oC. A partirdesta temperatura os filmes sofreram perda de flúor e mudanças nas suaspropriedades indicando a formação de uma estrutura mais grafítica.